[发明专利]一种ZnSe基底10.3-10.9μm高强减反膜及镀制方法在审
| 申请号： | 202110617201.6 | 申请日： | 2021-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN113341487A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 张勇;张涛;郭浩宇;陈俊霞;王苗苗;苏颖;张恒华;张成群;白涛;张金豹;耿浩;张树盛;杨资阳 | 申请（专利权）人： | 河南平原光电有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司： | 焦作市科彤知识产权代理事务所(普通合伙) 41133 | 代理人： | 陈湍南 |
| 地址： | 454150*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及红外光学镀膜技术领域，提供一种ZnSe基底10.3‑10.9μm高强减反膜，膜系结构为G/100L1010H901L10H933L10H/A；本申请还提供了一种ZnSe基底10.3‑10.9μm高强减反膜的镀制方法，采用APS离子源高能量辅助和基底加热镀膜的方式。本申请的有益效果为：ZnSe基底两面镀制本申请的高强减反射膜后，10.3μm～10.9μm平均透过率达到99％以上；并且满足JB/T 8226.1‑1999光学零件镀膜标准中对抗磨强度、恒定湿热、低温、盐雾环境试验的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 znse 基底 10.3 10.9 高强 减反膜 方法 | ||
【主权项】：
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