[发明专利]一种应对应力影响套刻误差的方法和系统在审
| 申请号： | 202110617362.5 | 申请日： | 2021-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN113376971A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 马恩泽;韦亚一;张利斌 | 申请（专利权）人： | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66 |
| 代理公司： | 南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙) 32411 | 代理人： | 朱凤平 |
| 地址： | 211899 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应对应力影响套刻误差的方法和系统，通过光刻机在实施曝光之前获得晶圆表面的形貌数据，并进行套刻误差量测；对晶圆表面的形貌数据和套刻误差量测数据相关性进行判断；对相关性阈值大小进行相关的补值计算；以相关性数值对应的百分比例反馈到光刻机，可以实现当前批次实时反馈，且每一片的数据均存在，即每一片晶圆的数据拟合后可以马上前反馈给当前的晶圆，而不需要像后反馈那样有一个周期的滞后性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应对 应力 影响 误差 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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