[发明专利]一种离子阻隔增反射釉层及其制备方法有效
| 申请号： | 202110624262.5 | 申请日： | 2021-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN114891372B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 刘玉杰;王晓亮;路雪飞 | 申请（专利权）人： | 焕澄（上海）新材料科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00;C09D7/61;C09D7/65;C09D7/20 |
| 代理公司： | 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 | 代理人： | 汤俊明 |
| 地址： | 201100 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光伏组件技术领域，更具体的涉及一种离子阻隔增反射釉层及其制备方法。一种离子阻隔增反射釉层，制备原料至少包括无机粉体、玻璃粉、钛白粉；所述的钛白粉的重量百分比为30‑40％；经本发明制备的离子阻隔增反射釉层减少有机溶剂的使用，避免了使用过程中溶剂的挥发，对实验者和环境均无伤害，符合环保要求；经本发明制备的离子阻隔增反射釉层通过有机载体、无机粉体、钛白粉和玻璃粉之间的相互作用，避免了Na离子的迁移，避免了组件性能的衰减，且PID测试没有变色，外观无明显异常，延长了光伏组件的使用年限。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 阻隔 反射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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