[发明专利]一种判断CVD实验中碳原子生长结构的方法有效
申请号: | 202110638881.X | 申请日: | 2021-06-08 |
公开(公告)号: | CN113373424B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 邵鹏;张辉;丁利苹;唐妍;张方辉;雷涛 | 申请(专利权)人: | 陕西科技大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/52;G16C10/00 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 崔瑞迎 |
地址: | 710021 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明属于纳米材料制备技术领域,具体涉及一种判断CVD实验中碳原子生长结构的方法。碳原子生长结构包括碳纳米管结构和富勒烯结构;碳纳米管结构的形成能由纳米管帽的曲率能、纳米管的曲率能以及纳米管与金属催化剂之间的边界形成能组成,富勒烯结构的形成能由富勒烯的曲率能、形成富勒烯过程中碳结构与金属催化剂间的界面形成能、碳原子与金属催化剂间的结合能组成,当碳纳米管结构的形成能大于富勒烯结构,则碳原子的生长结构为富勒烯结构,反之为碳纳米管结构。本发明解释了“在CVD实验中,金属纳米粒子表面的碳原子会生长为碳纳米管,而不是富勒烯结构”这一现象,可引导将来更好地设计碳纳米管生长的实验,制备更加优质的碳纳米管。 | ||
搜索关键词: | 一种 判断 cvd 实验 原子 生长 结构 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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