[发明专利]一种SC切型晶片圆周面抛光设备及工艺方法在审

专利信息
申请号: 202110640224.9 申请日: 2021-06-08
公开(公告)号: CN113231948A 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 沈立峰;徐建民;狄建兴;张立强;郝建军;张迎春;吕振兴;孙双;王伟;宋建华;王华恩;张贤领;杨铁生 申请(专利权)人: 唐山国芯晶源电子有限公司
主分类号: B24B29/04 分类号: B24B29/04;B24B41/02;B24B47/12;B24B41/04;B24B57/02;B24B41/06;B24B1/00
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 代理人: 雷秋芬
地址: 064100 河北*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种SC切晶片圆周面抛光设备及工艺方法,在抛光设备中设置工作台、驱动电机、传动机构、抛光上盘、抛光下盘和行星轮系;所述工作台的台面上方布置抛光下盘及抛光上盘,在工作台的台面下方布置驱动电机;所述驱动电机通过传动机构带动抛光下盘和抛光上盘反向旋转,抛光下盘和抛光上盘相对布置,并在抛光下盘和抛光上盘之间布置行星轮系;所述行星轮系设有齿圈、游轮和太阳轮,所述齿圈固定在工作台台面上,所述太阳轮与抛光下盘同轴装配,所述游轮与齿圈及太阳轮外啮合传动,在游轮上设置矩形长孔,并在游轮的矩形长孔中以间隙配合方式装配晶坨工件。本发明通过对石英晶片的加工工艺及加工设备的改进,达到了改善晶片边缘及侧壁质量的目的。
搜索关键词: 一种 sc 晶片 圆周 抛光 设备 工艺 方法
【主权项】:
暂无信息
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