[发明专利]具有多层级单元配置的非易失性存储器元件在审
申请号: | 202110640589.1 | 申请日: | 2021-06-09 |
公开(公告)号: | CN113782671A | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | D·J·J·洛;卓荣发;陈学深 | 申请(专利权)人: | 新加坡商格罗方德半导体私人有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 新加坡,*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及具有多层级单元配置的非易失性存储器元件,提供包括非易失性存储器元件的结构,以及制造包括非易失性存储器元件的结构的方法。第一非易失性存储器元件包括第一电极、第二电极、以及第一电极与第二电极之间的切换层。第二非易失性存储器元件包括第一电极、第二电极、以及第一电极与第二电极之间的切换层。第一位线耦合至第一非易失性存储器元件的第一电极,以及耦合至第二非易失性存储器元件的第一电极。第二位线耦合至第一非易失性存储器元件的第二电极。 | ||
搜索关键词: | 具有 多层 单元 配置 非易失性存储器 元件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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