[发明专利]一种X射线光学元件的制备方法及系统有效
| 申请号： | 202110641339.X | 申请日： | 2021-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN113345618B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 李艳丽;孔祥东;张新月;韩立 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 王爱涛 |
| 地址： | 100190 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种X射线光学元件的制备方法及系统。该方法包括：确定多层膜的周期厚度；所述多层膜包括第一薄膜和第二薄膜；确定所述第一薄膜和所述第二薄膜的材料；根据反射率确定薄膜厚度比以及周期数；根据所述周期厚度以及所述薄膜厚度比确定第一薄膜厚度和第二薄膜厚度；根据薄膜材料、所述周期数、所述第一薄膜厚度和所述第二薄膜厚度，利用原子层沉积法在玻璃X射线单毛细管内表面依次沉积第一薄膜和第二薄膜，完成X射线光学元件的制备。采用该方法制备的X射线光学元件具有两大优势：一是元件在聚焦X射线的同时可实现X射线的单色化；二是X射线单毛细管内表面的多层膜周期厚度小、粗糙度小、界面清晰，单色化X射线的反射率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 光学 元件 制备 方法 系统 | ||
【主权项】：
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