[发明专利]一种防静电抛光层、抛光垫及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202110642340.4 | 申请日： | 2021-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN113276017B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 孙斐;崔成强;杨冠南;赖海其;张昱 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22;B24B37/24;B24B37/26 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 陈嘉毅 |
| 地址： | 510006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防静电抛光层、抛光垫及其制备方法和应用，所述防静电抛光层包括如下按质量百分比计的原料：聚氨酯预聚物1％～30％；磨粒40％～96％；抗静电的导电物质1％～10％；交联剂1％～10％；多孔氧化锆1％～10％。所述抛光垫包括：基体层，所述基体层包括弹性衬底层和制备在弹性衬底层上的刚性层；上述防静电抛光层，所述抛光层制备在所述刚性层上；所述抛光层和刚性层以及弹性衬底层和刚性层均通过粘结剂粘结。本发明提供了一种防静电抛光层，所述防静电抛光层中含有抗静电的导电物质，使用该抛光层制备得到的抛光垫可防止CMP工作系统的故障，同时保证晶圆的表面加工质量，具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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