[发明专利]一种染料激光器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110643108.2 申请日: 2021-06-09
公开(公告)号: CN113381287A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 陈生琼;史丽娜;牛洁斌;李龙杰;谢常青 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01S3/213 分类号: H01S3/213;H01S3/0947
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆宗力
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种染料激光器及其制备方法,包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底上的第一绝缘介质层;位于所述第一绝缘介质层背离所述半导体衬底一侧的多条单晶硅线,所述单晶硅线沿第一方向延伸,且所述多条单晶硅线沿第二方向周期排列,所述第一方向和所述第二方向相交;及,覆盖所述多条单晶硅线、且填充相邻所述单晶硅线之间间隙处的第二绝缘介质层,所述第二绝缘介质层中包括有染料。本发明提供的染料激光器不仅结构简单,并且该染料激光器的制备工艺简单。
搜索关键词: 一种 染料 激光器 及其 制备 方法
【主权项】:
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