[发明专利]曝光处理方法、装置、电子设备、存储介质及程序产品在审
| 申请号： | 202110643733.7 | 申请日： | 2021-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN113179375A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 杜伟;马原 | 申请（专利权）人： | 北京澎思科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/243 | 分类号： | H04N5/243 |
| 代理公司： | 北京智信四方知识产权代理有限公司 11519 | 代理人： | 刘真 |
| 地址： | 100020 北京市朝*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开实施例公开了一种曝光处理方法、装置、电子设备、存储介质及程序产品，所述曝光处理方法包括：获取拍摄原始图像；将所述拍摄原始图像发送给处理器；接收处理器发送的曝光指令，根据所述曝光指令对所述拍摄原始图像进行曝光处理，其中，所述曝光指令为按照预设图像曝光方式对所述拍摄原始图像进行曝光处理，或者按照修正图像曝光方式对所述拍摄原始图像进行曝光处理。该技术方案能够在不增加图像采集设备计算压力的情况下，提高采集到的图像中目标对象的清晰度，进而降低了目标对象特征提取和识别工作的难度，提高了目标对象特征提取和识别的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 处理 方法 装置 电子设备 存储 介质 程序 产品 | ||
【主权项】：
暂无信息
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