[发明专利]一种二维原子晶体多层转角WS2在审

专利信息
申请号: 202110644688.7 申请日: 2021-06-09
公开(公告)号: CN113666418A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 刘华伟;潘安练;朱小莉 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: C01G41/00 分类号: C01G41/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 代理人: 钟丹
地址: 410082 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明涉及一种二维原子晶体多层转角WS2纳米材料及其制备方法。所述WS2纳米材料由n层WS2原子层堆叠形成,所述n≥2,堆叠方式为层间连续转角,层与层之间相互独立,相邻两层原子层之间的扭转角度为A,A为0°~60°中的任意角度。所述多层转角WS2纳米结构随着厚度的增大呈风车状。本发明首次采用简单的金纳米颗粒诱导成核方法合成了具有连续扭转角度的多层WS2纳米结构,该方法可推广于其他过渡金属硫族化合物转角结构的制备。所制备的样品具有较高的结晶质量,层间扭转角度多样,对于研究纳米级新型转角光电子学及光电集成器件有重要的意义。
搜索关键词: 一种 二维 原子 晶体 多层 转角 ws base sub
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