[发明专利]一种基于纳米球模板无光刻制备周期性垂直定向多壁碳纳米管阵列的方法有效
申请号: | 202110645892.0 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN113355649B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 陈瑞婷;薛亚飞;杨荟;楼姝婷;水玲玲;周国富;王新;迈克尔·吉尔森;埃泽尔·马丁·阿金诺古 | 申请(专利权)人: | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/50;C23C16/02;C23C14/35;C23C14/30;C23C14/18;B82Y40/00 |
代理公司: | 天津市尚文知识产权代理有限公司 12222 | 代理人: | 黄静 |
地址: | 526000 广东省肇庆市高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于纳米材料的技术领域,具体的涉及一种基于纳米球模板无光刻制备周期性垂直定向多壁碳纳米管阵列的方法。采用覆盖有六边形紧密排列的二氧化硅微球周期性阵列模板作为基底,在二氧化硅微球阵列模板表面镀金属催化剂,采用等离子体增强化学气相沉积法在二氧化硅微球阵列模板上制备高度有序的六边形排列的垂直定向多壁碳纳米管周期性阵列。该制备方法操作简单,无需光刻以及剥离,适用于大规模生产类似于蝉翼表面形貌的垂直定向多壁碳纳米管阵列,用于抗菌表面工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 纳米 模板 光刻 制备 周期性 垂直 定向 多壁碳 阵列 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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