[发明专利]一种放射性平面参考源的制备方法及制备装置在审
| 申请号： | 202110647901.X | 申请日： | 2021-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN113304975A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 何林锋;陈彦良;赵超;韩刚;唐方东 | 申请（专利权）人： | 上海市计量测试技术研究院 |
| 主分类号： | B05D1/26 | 分类号： | B05D1/26;B05D3/00;B05C5/02;B05C13/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种放射性平面参考源的制备方法及制备装置，该放射性平面参考源的制备方法包括：S1：在背衬板上形成密布整个背衬板表面的微米级微孔结构；S2：朝向所述微米级微孔结构内滴入具有放射性核素的溶液；S3：干燥所述背衬板以使所述溶液中的放射性核素沉积在所述微米级微孔结构内。采用该制备方法能够制备出均匀性较好，性能稳定，量值准确性较好的放射性平面参考源，并且可以有效保障制备过程中实验室环境以及人员的安全。并且该放射性平面参考源的制备装置能够制备出均匀性较好，性能稳定，量值准确性较好的放射性平面参考源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 放射性 平面 参考 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
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