[发明专利]一种基于硅基多次反射腔的红外气体传感器有效

专利信息
申请号: 202110651859.9 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113484267B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 任红军;金贵新;武传伟;陈海永;张朋;冯山虎;杨清永 申请(专利权)人: 汉威科技集团股份有限公司
主分类号: G01N21/3504 分类号: G01N21/3504
代理公司: 郑州德勤知识产权代理有限公司 41128 代理人: 苏志洋
地址: 450001 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供了一种基于硅基多次反射腔的红外气体传感器,包括基于硅基的多次反射腔、红外光源、光探测模块和集成电路模块;多次反射腔包括上层硅片、下层硅片、离轴抛物面、硅基反射片和滤光片;上层硅片的下表面蚀刻有凹槽,上层硅片的两侧面设置有硅基反射片,硅基反射片的表面镀有反射膜以形成光路通道;下层硅片与上层硅片叠在一起;光路通道的两端分别安装离轴抛物面,下层硅片上分别设置入射孔和出射孔;红外光源和光探测模块分别设置在入射孔和出射孔处;上层硅片上设置透气孔、外侧设置防水透气膜。该红外气体传感器具有红外光传输效率更高、光程更长、探测灵敏度更高的优点。
搜索关键词: 一种 基于 基多 反射 红外 气体 传感器
【主权项】:
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