[发明专利]成膜装置和成膜方法在审
| 申请号： | 202110652860.3 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113832438A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 竹内淳史;北田亨;中村贯人;五味淳 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/16;C23C14/52 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供成膜装置和成膜方法。不用事先对靶进行加工，就能够判断靶的更换时刻。一种成膜装置，其利用磁控溅射法在基板上形成膜，其中，该成膜装置具有：基板保持部，其保持基板；保持件，其以强磁性材料的靶朝向所述基板保持部的方式保持该靶；磁体单元，其设于所述保持件的与所述基板保持部相反的一侧，向被所述保持件保持的所述靶的所述基板保持部侧泄漏磁场；以及磁场强度测量部件，其测量所述磁场的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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