[发明专利]大尺寸芯片及其制作方法、大尺寸芯片晶圆有效

专利信息
申请号: 202110654051.6 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113394121B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 胡胜;周俊;孙鹏;占琼;施森华;杨虎 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/498;H01L23/528
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 田婷
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种大尺寸芯片及其制作方法、大尺寸芯片晶圆。制作方法包括:提供一晶圆,晶圆包括若干大尺寸芯片,大尺寸芯片的大小大于光刻机的最大曝光视场;大尺寸芯片包括至少两个拼接芯片;拼接芯片包括衬底和第一金属层,第一金属层至少包括用于不同拼接芯片之间互连的待互连金属层;形成第二金属层,第二金属层至少包括片间互连金属层,片间互连金属层跨越相邻的拼接芯片之间的虚拟划片区,且分别与相邻的拼接芯片各自的待互连金属层电连接。本发明在大尺寸芯片上实现不同的拼接芯片之间的互连,小的拼接芯片通过互连功能拓展,实现大尺寸芯片级的电信号互连优化,以实现更多的功能整合,更具灵活性和兼容特性。
搜索关键词: 尺寸 芯片 及其 制作方法
【主权项】:
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