[发明专利]一种VCSEL芯片氧化实时监控方法及设备有效
申请号: | 202110654563.2 | 申请日: | 2021-06-11 |
公开(公告)号: | CN113314951B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 鄢静舟;王坤;杨奕;糜东林 | 申请(专利权)人: | 福建慧芯激光科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183 |
代理公司: | 泉州市博一专利事务所(普通合伙) 35213 | 代理人: | 方传榜;苏秋桂 |
地址: | 362100 福建省泉州*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明公开了一种VCSEL芯片氧化实时监控方法及设备,该方法包括如下步骤:先在待氧化的外延片顶部沉积p型接触金属电极,然后将外延片划分为监控区和目标芯片区,分别蚀刻出监控氧化台面和目标氧化台面;将外延片放入氧化室中,监控区的p型接触金属电极和衬底背面连接于电容表;开启氧化制程,通过电容表实时采集监控氧化台面在不同氧化时间内的电容‑电压曲线,并获取氧化前的电容C |
||
搜索关键词: | 一种 vcsel 芯片 氧化 实时 监控 方法 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建慧芯激光科技有限公司,未经福建慧芯激光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110654563.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。