[发明专利]一种VCSEL芯片氧化实时监控方法及设备有效

专利信息
申请号: 202110654563.2 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113314951B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 鄢静舟;王坤;杨奕;糜东林 申请(专利权)人: 福建慧芯激光科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 泉州市博一专利事务所(普通合伙) 35213 代理人: 方传榜;苏秋桂
地址: 362100 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种VCSEL芯片氧化实时监控方法及设备,该方法包括如下步骤:先在待氧化的外延片顶部沉积p型接触金属电极,然后将外延片划分为监控区和目标芯片区,分别蚀刻出监控氧化台面和目标氧化台面;将外延片放入氧化室中,监控区的p型接触金属电极和衬底背面连接于电容表;开启氧化制程,通过电容表实时采集监控氧化台面在不同氧化时间内的电容‑电压曲线,并获取氧化前的电容Cs、氧化任意时刻的电容Cdep和已氧化部分的电容Csox;实时计算监控氧化台面的已氧化面积A,并进一步求取监控氧化台面的氧化深度D;以氧化深度和氧化时间作为氧化监控参照指标,绘制氧化深度‑氧化时间的曲线关系图,并由此实时控制目标芯片区的氧化深度。
搜索关键词: 一种 vcsel 芯片 氧化 实时 监控 方法 设备
【主权项】:
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