[发明专利]一种优化边缘灵敏度的EIT传感器设计方法在审

专利信息
申请号: 202110660240.4 申请日: 2021-06-15
公开(公告)号: CN113413149A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 施艳艳;田志威;付峰;杨滨;周怡敏;刘学超;李磊 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军军医大学
主分类号: A61B5/0536 分类号: A61B5/0536
代理公司: 新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 41139 代理人: 路宽
地址: 710032 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种优化边缘灵敏度的EIT传感器设计方法,首先将n个电极放置在距患者双眉往上3cm的水平面上,并在前额中心与后枕中心各自放置一个电极作为固定电极,将其余电极以间隔弧长放置;将此均匀电极排布作为初始电极位置对患者进行初始成像,根据成像所显示的病变所处区域的不同对电极位置进行优化,将全部电极分为两组,分别进行移动,记录并保存RS、BR值;根据RS与BR值固定靠近病变位置的电极组到最优位置,在删除一定的数据后再根据RS与BR值固定另一远离病变位置的电极组到最优位置。本发明有效提升了边缘位置成像的质量,通过改变电极使更多的电流流经目标区域,从而提升灵敏度,使成像BR值更小,伪影更少。
搜索关键词: 一种 优化 边缘 灵敏度 eit 传感器 设计 方法
【主权项】:
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