[发明专利]一种电解铜箔小试实验槽在审
| 申请号： | 202110670273.7 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113293413A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 吕吉庆;龚凯凯;杨红光;庞志君;刘海锋 | 申请（专利权）人： | 九江德福科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04 |
| 代理公司： | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人： | 唐忠庆 |
| 地址： | 332000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电解铜箔小试实验槽，包括电镀槽组件，电镀槽组件连接有储液槽组件，储液槽组件上设置有温控机构，储液槽组件连接有动力循环机构，动力循环机构与电镀槽组件连接；电镀槽组件包括电镀槽槽体和与电镀槽槽体连接的底座，电镀槽槽体上均匀开设有多个第一限位口，底座上开设有与多个第一限位口一一对应的第二限位口，电镀槽槽体内设置有阳极板和阴极板，阳极板和阴极板与第一限位口和第二限位口卡扣连接，电镀槽槽体的上部设置有溢流管，电镀槽槽体下部的两侧面上分别设置有上液喷淋管和第一排污管。本发明在高端铜箔的研发过程当中，实现各项过程参数稳定、可控、精确且易操作的功能，提高研发精度及效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电解 铜箔 实验 | ||
【主权项】：
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