[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审
申请号: | 202110677096.5 | 申请日: | 2021-06-18 |
公开(公告)号: | CN113410276A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 李杰;张伟;郭钟旭;李存智;陈昱伶 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域。本公开提供的阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、像素层、有机层和彩膜层。其中,像素层包括第一子像素、第二子像素和第三子像素;有机层远离衬底基板的表面设置有与第一子像素交叠的第一凹槽;彩膜层包括与第一子像素交叠的第一色阻单元、与第二子像素交叠的第二色阻单元和与第三子像素交叠的第三色阻单元;其中,第一色阻单元至少部分容置于第一凹槽中。本公开提供的阵列基板,能够提高阵列基板的显示质量。 | ||
搜索关键词: | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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