[发明专利]一种用于MPCVD腔体连接的法兰及MPCVD装置在审

专利信息
申请号: 202110681101.X 申请日: 2021-06-18
公开(公告)号: CN113265649A 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 魏浩胤;曾凡初 申请(专利权)人: 长沙新材料产业研究院有限公司
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/511;F16J15/06;F16J15/10
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 段盼姣
地址: 410000 湖南省长沙市长沙高新开发区文轩路*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请涉及一种用于MPCVD腔体连接的法兰及MPCVD装置。法兰包括上法兰、下法兰、屏蔽条和密封圈;上法兰和下法兰配合,用于固定MPCVD腔体;下法兰上设有环状的开槽一,开槽一的宽度为以分隔板为介质,微波在介质中传输的半波长的整数倍,开槽一用于安装分隔板;下法兰上开槽一的槽底上设有开槽二和开槽三;开槽二和开槽三为同心的环状槽且开槽二的半径小于开槽三的半径;开槽二用于安装屏蔽条,开槽三用于安装密封圈。MPCVD装置包括法兰、上半腔体、下半腔体、分隔板、同轴传输段、同轴天线和生长台。本申请能够实现真空密封和微波屏蔽,减缓密封圈老化,防止微波打火烧毁密封圈,降低法兰对微波场的影响,防止打火和次生等离子的产生。
搜索关键词: 一种 用于 mpcvd 连接 法兰 装置
【主权项】:
暂无信息
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