[发明专利]用于具有磁性靶材的溅射源的磁力释放在审
| 申请号： | 202110685559.2 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN113621923A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | P·L·摩斯;D·T·克罗利 | 申请（专利权）人： | 零件喷涂公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 金飞;杨忠 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于旋转靶阴极的磁棒组件包括支撑结构、可移动地附接到所述支撑结构并且包含多个磁体的磁棒结构以及可操作地耦接到所述支撑结构和所述磁棒结构的定位机构。所述定位机构被配置为当在磁性靶材筒内时，在缩回位置和展开位置之间移动所述磁棒结构。当所述磁棒组件插入靶筒或从所述靶筒移除时，所述缩回位置显著减小所述磁体和所述靶筒的磁性靶材之间的磁力。当所述磁棒组件处于所述靶筒中时，所述展开位置显著增加所述磁体和所述磁性靶材之间的磁力，并且允许来自所述磁棒结构的磁场穿透所述磁性靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 具有 磁性 溅射 磁力 释放 | ||
【主权项】：
暂无信息
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