[发明专利]进液装置及半导体清洗设备在审
| 申请号： | 202110691026.5 | 申请日： | 2021-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN113414165A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 杨树国;张虎;张明 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种进液装置和半导体清洗设备，其中，进液装置用于向半导体清洗设备的清洗槽中输送工艺液体，其包括储液容器、进液管路、液体压力调节单元和控制单元；其中，储液容器用于存储工艺液体；进液管路分别与储液容器和清洗槽连接，用于将储液容器中的工艺液体输送至中清洗槽中；液体压力调节单元与进液管路连接，用于将储液容器中的工艺液体抽出，并调节进液管路内的液体压力；控制单元用于根据预设条件控制液体压力调节单元调节进液管路内的液体压力。本发明提供的进液装置和半导体清洗设备能够根据预设条件自动调节半导体清洗设备的进水压力，从而能够针对满足不同预设条件的不同晶圆的清洗工艺进水压力进行调节，进而提高清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 半导体 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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