[发明专利]存储器器件、晶体管及形成存储单元的方法在审

专利信息
申请号: 202110693104.5 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113421885A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 贾汉中;马礼修 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/1159 分类号: H01L27/1159;H01L27/11592;H01L29/78;H01L29/51
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种存储器器件、一种晶体管及其制作方法,存储器器件包括铁电(FE)结构及顶部电极层,铁电结构包括介电层、设置在介电层上的铁电层及设置在铁电层上的界面金属层,其中界面金属层包含钨(W)、钼(Mo)、钌(Ru)、氮化钽(TaN)、或它们的组合以诱发铁电层具有正交晶相;顶部电极层设置在界面金属层上。
搜索关键词: 存储器 器件 晶体管 形成 存储 单元 方法
【主权项】:
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