[发明专利]量测方法、量测设备、器件制造方法和计算机程序产品在审
| 申请号： | 202110694822.4 | 申请日： | 2016-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN113376975A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 理查德·金塔尼利亚;A·J·登鲍埃夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/956;G01N21/88;H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种用于测量通过光刻过程在衬底上制造的多个结构的属性的混合量测设备、测量通过光刻过程制造的多个结构的属性的方法、器件制造方法和计算机程序产品。该混合量测设备包括：第一照射系统，用于利用第一辐射照射第一结构；第一检测系统，用于检测包括由第一结构反射的第一辐射的至少部分的第一光谱；第二照射系统，用于利用第二辐射照射第二结构；第二检测系统，用于检测包括由第二结构反射的第二辐射的至少部分的第二光谱；处理系统，用于使用所检测到的第一光谱和所检测到的第二光谱来确定光刻过程的所关注参数，第二检测系统和第一检测系统在同一波段内以不同方式操作或在不同波段中操作。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 设备 器件 制造 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】：
暂无信息
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