[发明专利]一种考虑粘滞效应的复杂形貌磁头稳态飞行建模方法有效

专利信息
申请号: 202110699518.9 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113435085B 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 王宇;赵悦 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23;G06F119/14
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 王艾华
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种考虑粘滞效应的复杂形貌磁头稳态飞行建模方法,首先利用Hypermesh前处理软件建立的磁头表面刻蚀模型坐标;利用COMSOL商用有限元软件建立头盘界面磁头飞行状态动力学求解模型;并考虑在微纳米尺度下粘滞力及分子间作用力的影响,改进头盘界面动力学模型;利用上述方法,有利于研究磁头在纳米尺度下的飞行姿态及承载特性,为磁头的设计制造提供基础。
搜索关键词: 一种 考虑 效应 复杂 形貌 磁头 稳态 飞行 建模 方法
【主权项】:
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