[发明专利]一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备及方法在审
| 申请号： | 202110702031.1 | 申请日： | 2021-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN113337795A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 唐云俊;王昱翔;周虹玲;周东修 | 申请（专利权）人： | 浙江艾微普科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人： | 王大国 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备和方法，设备包括包括工艺腔体，所述工艺腔体上设置有工艺气体进口和真空吸口，工艺气体进口连接有氮气管道和氩气管道，方法包括如下工艺步骤，S1：编制迟滞回线菜单；S2：上载基片，运行上述迟滞回线菜单；S3：下载基片，绘制迟滞回线菜单；S4：依据迟滞回线，确定反应溅射氮化铝的氮气流量并编制工艺菜单；S5：上载基片，运行工艺菜单；S6：下载基片，测量薄膜光学参数；S7：若未达标，进入步骤S8；若达标，则满足要求，结束。S8：微调氮气流量，形成新的工艺菜单；重复步骤S5‑S7，本发明可以通过精确调控反应溅射中工艺气体的氮气的含量，从而对氮化铝(AlN)的折射率进行调控，以达到设计的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 折射率 可调 aln 薄膜 制备 设备 方法 | ||
【主权项】：
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