[发明专利]一种晶种诱导微波合成的SiC晶体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110702201.6 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113264774A 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 张锐;关莉;王海龙;李哲;张新月;高前程;赵彪;郭少杰;李明亮;范冰冰 申请(专利权)人: 郑州航空工业管理学院
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/65
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 梁静
地址: 450046 河南*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种晶种诱导微波合成的SiC晶体及其制备方法,涉及无机非金属材料技术领域。包括以下步骤:将硅粉、纳米碳黑及SiC晶种均匀混合后,获得混合粉体,再将混合粉体压制成坯体,随后采用微波加热,于800~1100℃保温15~30min合成SiC晶体,即得所述晶种诱导微波合成SiC晶体。本发明提供方法相比于工业上现用的晶种诱导技术,本文工艺将极大的降低SiC晶体合成的难度和工艺条件。微波加晶种复合诱导合成SiC具有良好的应用前景。
搜索关键词: 一种 诱导 微波 合成 sic 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州航空工业管理学院,未经郑州航空工业管理学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110702201.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top