[发明专利]一种晶种诱导微波合成的SiC晶体及其制备方法在审
申请号: | 202110702201.6 | 申请日: | 2021-06-24 |
公开(公告)号: | CN113264774A | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 张锐;关莉;王海龙;李哲;张新月;高前程;赵彪;郭少杰;李明亮;范冰冰 | 申请(专利权)人: | 郑州航空工业管理学院 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565;C04B35/65 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 梁静 |
地址: | 450046 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种晶种诱导微波合成的SiC晶体及其制备方法,涉及无机非金属材料技术领域。包括以下步骤:将硅粉、纳米碳黑及SiC晶种均匀混合后,获得混合粉体,再将混合粉体压制成坯体,随后采用微波加热,于800~1100℃保温15~30min合成SiC晶体,即得所述晶种诱导微波合成SiC晶体。本发明提供方法相比于工业上现用的晶种诱导技术,本文工艺将极大的降低SiC晶体合成的难度和工艺条件。微波加晶种复合诱导合成SiC具有良好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 诱导 微波 合成 sic 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州航空工业管理学院,未经郑州航空工业管理学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110702201.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。