[发明专利]一种高电导率Si/C纳米膜的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202110703747.3 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113471399B 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 余佳阁 申请(专利权)人: 湖北工程学院
主分类号: H01M4/04 分类号: H01M4/04;H01M10/0525;C23C14/35;D01D5/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 兰岚
地址: 432000 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种高电导率Si/C纳米膜的制备方法,该方法包括以下步骤:首先,将碳源和硅源按1~24:1的质量比溶解于溶剂中,经搅拌得到预溶液;其次,将预溶液进行静电纺丝,获得预产物;再次,将所述预产物依次经过干燥、固化和煅烧操作,得到Si/C纳米膜;最后,将上述Si/C纳米膜进行真空镀膜,镀一层导电层,即得到高电导率Si/C纳米膜。本发明所制得的高电导率Si/C纳米膜作为锂电负极材料应用时,不仅体现出优异的导电性能,还能显著提高锂离子电池的循环稳定性和倍率性能,能够更好的满足纯电动车电池负极材料的应用需求。
搜索关键词: 一种 电导率 si 纳米 制备 方法 应用
【主权项】:
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