[发明专利]一种磁控矢量高速等离子体合成射流激励器在审
申请号: | 202110709979.X | 申请日: | 2021-06-25 |
公开(公告)号: | CN113423168A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 谢玮;罗振兵;周岩;彭文强;高天翔;刘强 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人: | 赵小龙 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种磁控矢量高速等离子体合成射流激励器,主要包括激励器壳体、阴极放电电极、阳极放电电极与磁场发生装置,激励器壳体内设有放电腔,激励器壳体上设有与所述放电腔相通的射流出口,阴极放电电极、阳极放电电极分别插入放电腔;所述磁场发生装置激发产生磁场,所述磁场覆盖所述射流出口外的部分区域。在射流出口及出口外一定区域内施加磁场,通过高压放电产生高温高速等离子体合成射流,喷出后,等离子体合成射流将受到垂直射流的洛伦兹力从而发生偏转,通过控制磁场的方向、大小可控制射流的偏转方向和偏转程度,从而实现等离子体合成射流的矢量性,可在很大程度上扩展其应用范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 矢量 高速 等离子体 合成 射流 激励 | ||
【主权项】:
暂无信息
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