[发明专利]一种导电膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202110710555.5 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN113658746B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 许玮昶;孟祥浩 | 申请（专利权）人： | 苏州思尔维纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 蓝晓玉 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市相城*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种导电膜及其制备方法，该导电膜包括：基材；憎水模板阵列层，导电层和保护层；该导电膜的制备方法为：在基材一侧面制备憎水模板阵列层；在基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层；在憎水模板阵列层、导电层远离基材一侧面制备保护层。本发明的方法利用憎水模板阵列层阻隔之后导电液的涂布，使得导电液只停留在之前未被憎水模板阵列层覆盖的地方，从而形成导电线路，来代替传统的激光刻蚀工艺，由于憎水模板阵列层可很好的起到了防止导电层短路，避免出现触控失效；同时由于未使用激光刻蚀工艺，可以实现保护液的厚涂，最终形成的保护层厚度可达0.2~10μm，相比激光刻蚀工艺，本申请的保护层的保护效果大大增强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 导电 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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