[发明专利]旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法有效
| 申请号： | 202110721580.3 | 申请日： | 2021-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN113445013B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 马欣新 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/56;C23C14/02;C23C14/16 |
| 代理公司： | 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 | 代理人： | 杨晓辉 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法，涉及物理气相沉积领域。本发明的目的是为了解决现有物理气相沉积方法难以在回火温度以下为GCr15轴承钢旋翼轴承内圈内壁表面沉积结合力强且均匀薄膜的问题。本申请以旋翼轴承内圈为真空室，在氩气环境下，采用两个与轴承内圈同轴的一号柱形磁控溅射靶和二号柱形磁控溅射靶，利用高功率脉冲磁控溅射方法，溅射出高离化率金属离子，分别将两种金属沉积在旋翼轴承内圈内壁，为旋翼轴承内圈内壁镀打底膜和镀面膜，通过移动一号柱形磁控溅射靶和二号柱形磁控溅射靶电极形成均匀的镀膜效果。它用于为旋翼轴承内圈镀金属薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 轴承 内圈 内壁 功率 磁控溅射 薄膜 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
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