[发明专利]一种用于绝缘纸光谱的水分影响因素校正方法及系统在审

专利信息
申请号: 202110722643.7 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113447452A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 李元;张文博;李含;张大宁;张冠军 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G06F17/16;G06F17/15;G06F30/20
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 秦丽
地址: 710000 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种的用于绝缘纸光谱的水分影响因素校正方法及系统,获取校正前的绝缘纸光谱数据Xw,然后利用差值法进行处理,得到干燥绝缘纸样品与不同含水状态的绝缘纸样品的差异矩阵D,进而对其进行主成分分解获得矩阵G,进而得到水分影响矩阵Q;通过水分影响矩阵Q的处理得到转换矩阵P;最后利用校正方法得到校正后的绝缘纸光谱数据Xpre。本发明考虑到不同样品间含水状态差异对预测精度的影响,对样品光谱中受水分影响的部分进行校正,将原始光谱数据映射至与水分影响光谱正交的空间,从而去除由水分因素波动而造成的光谱变化,有效提升了绝缘纸聚合度的预测精度。
搜索关键词: 一种 用于 绝缘纸 光谱 水分 影响 因素 校正 方法 系统
【主权项】:
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