[发明专利]一种投影光学系统有效

专利信息
申请号: 202110728921.X 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113253414B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 陈怡学;伍俊东;杨峰;葛睿 申请(专利权)人: 成都极米科技股份有限公司
主分类号: G02B7/04 分类号: G02B7/04;G02B27/00;G03B21/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王雨
地址: 610041 四川省成都市自由贸易试验区成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种投影光学系统,第一透镜组用于调焦,第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组用于变焦,光阑位于第三透镜组和第四透镜组之间。第一透镜组的第一透镜其至少一表面为非球面。有利于提高光学系统视场角并且较好地校正轴外像差和畸变。第四透镜组包括的第五透镜至少一表面为非球面,在光阑后配置非球面透镜,能够良好地校正光学系统像差提升MTF性能。本投影光学系统通过优化设计各透镜组的透镜数量、各透镜面形以及透镜各项光学参数,能够满足大光圈口径、结构简单小型化以及低成本的要求,并且可以有效地改善系统的像差和抑制系统畸变发生。
搜索关键词: 一种 投影 光学系统
【主权项】:
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