[发明专利]一种投影光学系统有效
申请号: | 202110728921.X | 申请日: | 2021-06-29 |
公开(公告)号: | CN113253414B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 陈怡学;伍俊东;杨峰;葛睿 | 申请(专利权)人: | 成都极米科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B7/04 | 分类号: | G02B7/04;G02B27/00;G03B21/14 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王雨 |
地址: | 610041 四川省成都市自由贸易试验区成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种投影光学系统,第一透镜组用于调焦,第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组用于变焦,光阑位于第三透镜组和第四透镜组之间。第一透镜组的第一透镜其至少一表面为非球面。有利于提高光学系统视场角并且较好地校正轴外像差和畸变。第四透镜组包括的第五透镜至少一表面为非球面,在光阑后配置非球面透镜,能够良好地校正光学系统像差提升MTF性能。本投影光学系统通过优化设计各透镜组的透镜数量、各透镜面形以及透镜各项光学参数,能够满足大光圈口径、结构简单小型化以及低成本的要求,并且可以有效地改善系统的像差和抑制系统畸变发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 投影 光学系统 | ||
【主权项】:
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