[发明专利]保护膜形成用片卷的制造方法在审
| 申请号： | 202110737442.4 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN114075413A | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 山本大辅 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/30 | 分类号： | C09J7/30;C09J7/10;C09J7/40;C09J133/08;C09J163/00;C09J11/04;C09J11/06;C09D183/07;C09D183/05;C09D5/20;B65D65/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种不易产生痕迹的保护膜形成用片卷的制造方法，该痕迹起因于会给保护膜带来痕迹的保护膜形成膜的卷绕。所述保护膜形成用片卷的制造方法具有：将卷绕具有保护膜形成膜、设置在保护膜形成膜的一个面上的第一剥离膜、及设置在保护膜形成膜的另一个面上的第二剥离膜的长条片而形成的片卷，自形成片卷后起60天之中，于10℃以下的保管温度保管25天以上的工序，将从保护膜形成膜上剥离第一剥离膜的剥离力设为F1，将从保护膜形成膜上剥离第二剥离膜的剥离力设为F2时，满足F1＞F2的关系，将10℃下的保护膜形成膜的损耗角正切设为tanδ |
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| 搜索关键词： | 保护膜 形成 用片卷 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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