[发明专利]一种微型发光元件及其制备方法有效
| 申请号： | 202110740250.9 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN113451476B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 刘伟;刘伟文;彭绍文;林锋杰;周弘毅 | 申请（专利权）人： | 厦门乾照光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/46 | 分类号： | H01L33/46;H01L33/44;H01L33/36;H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微型发光元件及其制作方法，其DBR结构层包括依次层叠的DBR黏附层、DBR反射层和DBR牺牲层，通过DBR黏附层改善后续DBR反射层的结构披覆性；并利用所述DBR牺牲层、DBR反射层及DBR黏附层的蚀刻速率依次降低的设置，通过刻蚀工艺形成具有斜侧壁的通孔，消除位于电极扩展条上方的DBR反射层与位于ITO上方的DBR反射层的高度差，形成平滑的台面，进而使得电极基本处于同一高度以提升其推拉力可靠性，避免掉电极的风险；且通过通孔的斜侧壁设置，有利于后续第一电极的披覆，并增大第一电极与DBR结构层的接触面积，使得DBR结构层与电极之间能够形成良好的黏附；进而保证发光元件的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微型 发光 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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