[发明专利]基于MMD残差的隐写检测特征选取方法有效

专利信息
申请号: 202110740667.5 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113542525B 公开(公告)日: 2023-02-10
发明(设计)人: 刘粉林;金顺浩;杨春芳;马媛媛;刘媛 申请(专利权)人: 中国人民解放军战略支援部队信息工程大学
主分类号: H04N1/32 分类号: H04N1/32
代理公司: 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 代理人: 张立强
地址: 450000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供一种基于MMD残差的隐写检测特征选取方法。该方法包括:步骤1:将高维Rich Model隐写检测特征拆解为若干个Rich Model子模型特征向量;步骤2:针对每个Rich Model子模型特征向量,基于MMD残差的属性重要度的度量公式度量其各个特征分量的属性重要度值,并根据属性重要度值对各个特征分量进行降序排序;步骤3:针对每个Rich Model子模型特征向量,设置窗口大小Spro,选取降序排序后向量中的前Spro维特征分量作为当前Rich Model子模型特征向量的降维后的隐写检测特征;步骤4:将降维后的各个Rich Model子模型特征向量进行合并以作为最终的隐写检测特征。本发明能够高效地降低Rich Model隐写检测特征维数,并维持原有的检测性能。
搜索关键词: 基于 mmd 检测 特征 选取 方法
【主权项】:
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