[发明专利]基于MMD残差的隐写检测特征选取方法有效
申请号: | 202110740667.5 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN113542525B | 公开(公告)日: | 2023-02-10 |
发明(设计)人: | 刘粉林;金顺浩;杨春芳;马媛媛;刘媛 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军战略支援部队信息工程大学 |
主分类号: | H04N1/32 | 分类号: | H04N1/32 |
代理公司: | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人: | 张立强 |
地址: | 450000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明提供一种基于MMD残差的隐写检测特征选取方法。该方法包括:步骤1:将高维Rich Model隐写检测特征拆解为若干个Rich Model子模型特征向量;步骤2:针对每个Rich Model子模型特征向量,基于MMD残差的属性重要度的度量公式度量其各个特征分量的属性重要度值,并根据属性重要度值对各个特征分量进行降序排序;步骤3:针对每个Rich Model子模型特征向量,设置窗口大小S |
||
搜索关键词: | 基于 mmd 检测 特征 选取 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军战略支援部队信息工程大学,未经中国人民解放军战略支援部队信息工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110740667.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种显示屏支架
- 下一篇:一种基于子图更新和反光板优化的动态激光SLAM方法