[发明专利]可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法有效
| 申请号： | 202110741929.X | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN113501779B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 夏成峰;梁康江;李希攀 | 申请（专利权）人： | 云南大学 |
| 主分类号： | C07D211/76 | 分类号： | C07D211/76;C07D209/34;C07D209/48;C07D307/68;C07C231/08;C07C233/11;C07C209/62;C07C211/46;C07C211/38;C07C211/35;C07C213/08;C07C217/84;C07C253/30 |
| 代理公司： | 昆明同聚专利代理有限公司 53214 | 代理人： | 苏芸芸 |
| 地址： | 650091*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法，即含苄基、烯丙基或炔丙基类保护基的底物，在酚催化剂、碱、氢源和光的作用下，通过自由基裂解反应，得到目标选择性脱保护基的产物；本方法操作简单，采用安全清洁的可见光或近可见光为激发条件，试剂便宜易得，反应产率高，反应的化学和区域选择性高，适用于各种底物中苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的选择性脱除。 | ||
| 搜索关键词： | 可见光 引发 选择性 脱除 苄基 丙基 保护 方法 | ||
【主权项】：
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