[发明专利]一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置有效
| 申请号： | 202110749359.9 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN113441472B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 杨燕旋 | 申请（专利权）人： | 深圳市科源信科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518048 广东省深圳市福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置，包括机座，机座上具有工位口，工位口上设有清洗仓，清洗仓内设有支撑柱和与支撑柱活动设置的定位板，定位板与清洗仓之间设有弹簧，工位口的上端设置有盖板，盖板连接驱动源，定位板上具有数个容高频晶片置入的放置槽，放置槽上贯通有清洗孔，定位板上设置有清洗管和与清洗管连通的进气口，清洗管具有多个支管，多个支管分别位于相邻的两放置槽之间，其上具有数个朝放置槽方向贯通的出气孔；其中，盖板在驱动源的作用下，与定位板配合使放置槽形成独立的空间；本发明提出一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置，旨在解决现有技术中清洗效率低以及清洗后的晶片留有残液的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 石英 高频 晶片 清洗 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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