[发明专利]一种微纳多孔陷光结构及其制备方法有效
| 申请号： | 202110751043.3 | 申请日： | 2021-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN113512229B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 王啸;李朝龙;朴明星;史浩飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
| 主分类号： | C08J9/26 | 分类号： | C08J9/26;C08J7/00;C08J7/04;C08J5/18;C08L27/18;G02B5/00 |
| 代理公司： | 重庆缙云专利代理事务所(特殊普通合伙) 50237 | 代理人： | 王翔 |
| 地址： | 400714 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种微纳多孔陷光结构及其制备方法。即针对传统制备工艺中对选择性光学吸收结构精确控制性较差的缺点，提供了一种尺寸可精准调控的多孔光学吸收结构及其制备方法，通过引入标准尺寸的致孔剂构建尺度精准的光学吸收结构，该结构与目标吸收光源的波长尺度精准匹配，实现在该特定波段下的高效光学吸收。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多孔 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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