[发明专利]一种基于CCD成像检焦对准的微结构加工方法和装置在审
| 申请号： | 202110751586.5 | 申请日： | 2021-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN113391527A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 杜佳林;严伟;王雨萌;张仁彦;刘敏;李凡星;王健;余斯洋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 江亚平 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于CCD成像检焦对准的微结构加工方法和装置，通过设计光路使CCD与DMD共轭，当硅片处于焦面位置时，DMD上图案通过远心成像系统在硅片上成像清晰，同时由于CCD与DMD共轭，故硅片上的图案在CCD上也成像清晰，从而可以利用该共轭关系，以CCD上成像清晰度作为DMD曝光焦面的位置检测。本发明提出的基于CCD成像检焦对准的微结构加工方法和装置在保证DMD微结构加工检焦和对准的同时，可实现光刻过程中的实时成像，能够满足任意时刻在硅片的任意位置实现任意图案的曝光光刻，便于各种二维材料的加工，且整机系统结构紧凑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 ccd 成像 对准 微结构 加工 方法 装置 | ||
【主权项】：
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