[发明专利]原子层沉积装置有效
申请号: | 202110753358.1 | 申请日: | 2021-07-02 |
公开(公告)号: | CN113564564B | 公开(公告)日: | 2022-10-21 |
发明(设计)人: | 陈蓉;邵华晨;刘潇;向俊任;李嘉伟;弋戈 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 姚莉娟 |
地址: | 430070 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种原子层沉积装置,反应室包括反应室主体与腔门,反应室主体的内部形成反应腔体,反应室主体上设有进气口与抽气口,腔门与反应室主体可拆卸连接;安装架与腔门固定连接,腔门与反应室主体连接时,安装架位于反应腔体的内部;第一承载件用于承载块状待包覆物,第一承载件与安装架可拆卸连接;第二承载件用于承载粉状待包覆物,第二承载件与安装架可拆卸连接;第一使用状态下,第一承载件与安装架固定连接;第二使用状态下,第二承载件与安装架连接,且驱动件与第二承载件连接,驱动件用于驱动第二承载件相对于安装架转动。该原子层沉积装置可以对不同类型的待包覆物进行沉积,适用范围更广。 | ||
搜索关键词: | 原子 沉积 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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