[发明专利]一种用于金刚石膜抛光的等离子体刻蚀法及其产品

摘要

本发明公开了一种用于金刚石膜抛光的等离子体刻蚀法及其产品，属于金刚石膜制备与抛光技术领域。本发明采用微波化学气相沉积法沉积出初始金刚石膜，初始金刚石膜沉积完成后进行微波等离子体刻蚀，获得金刚石膜。本发明采用无接触法对金刚石膜抛光，选择性刻蚀(111)晶面锥顶，大幅度降低金刚石膜表面的粗糙度，可用于对金刚石膜光学镜头、热沉积金刚石膜等器件的抛光，具有广阔的应用前景。