[发明专利]一种选择蚀刻钨及氮化钛的蚀刻液有效
| 申请号： | 202110770187.3 | 申请日： | 2021-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN113604803B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 钟昌东;贺兆波;刘悦;张庭;冯凯;尹印;万杨阳;王书萍;李鑫;李金航 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/26;C23F1/44;C09K13/06 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种选择蚀刻钨及氮化钛的蚀刻液。在本发明中，双氧水，双氧水稳定剂，硝酸，有机酸，蚀刻抑制剂，表面活性剂和去离子水构成钨、氮化钛蚀刻液。在蚀刻液对钨及氮化钛蚀刻的过程中，能够保持稳定的蚀刻速率和较大的选择比。带有氨基基团的联吡啶可以降低双氧水分解速率，稳定蚀刻速率；蚀刻抑制剂可以和金属原子以配位键的形式强烈地吸附在氮化钛的表面，形成一层致密的薄膜，减缓对氮化钛的蚀刻；表面活性剂可以调节蚀刻液与不同金属表面的界面张力，增大两相的接触，提高介质传递速率，从而调节蚀刻液的选择比。本发明的蚀刻液能以较高的蚀刻速率蚀刻金属钨，且能保持较高的选择比。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 选择 蚀刻 氮化 | ||
【主权项】：
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