[发明专利]一种降温制品及全太阳光谱高反射面料的制备方法在审
| 申请号： | 202110780815.6 | 申请日： | 2021-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN115593062A | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 陶光明;曾少宁 | 申请（专利权）人： | 武汉格物感知信息科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B32B27/32;B32B27/06;B32B27/08;B32B27/12;B32B27/18;B32B7/14;B32B7/12;A41D13/11;A41D31/02;A41D31/04;A41D31/10;A41D31/24;A41D31/32 |
| 代理公司： | 北京彩和律师事务所 11688 | 代理人： | 闫桑田;郎雨 |
| 地址： | 430206 湖北省武汉市东湖新技术开发区韩杨*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开一种降温制品，其特征在于，其包括由多根微纳米纤维缠绕交织形成的具有微纳米孔隙的全太阳光谱高反射膜以及基底材料；所述各微纳米纤维通过微纳米球连接；其中所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。还公开一种全太阳光谱高反射面料的制备方法，其特征在于，其包括下述步骤：制备制冷基布；制备全太阳光谱高反射膜；将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降温 制品 太阳 光谱 反射 面料 制备 方法 | ||
【主权项】：
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