[发明专利]阵列基板及制作方法、移动终端有效
申请号: | 202110782275.5 | 申请日: | 2021-07-12 |
公开(公告)号: | CN113433747B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 艾飞;罗成志;尹国恒 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1343;G09G3/36 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 蔡艾莹 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请提出了一种阵列基板及制作方法、移动终端;阵列基板包括衬底、位于衬底上的阵列驱动层、位于阵列驱动层中的公共电极层、位于阵列驱动层上的像素电极层和位于像素电极层上的降阻件,像素电极层包括绝缘设置的像素电极和桥接电极,桥接电极连接有与公共电极层异层设置的恒压传输端,降阻件位于桥接电极上,公共电极层与桥接电极电连接,像素电极与薄膜晶体管电连接;本申请通过桥接电极连接公共电极层和恒压传输端,以减少或在阵列驱动层的多个膜层中逐层形成过孔时所需的光罩次数,从而简化了混合TFT基板的制程工艺。 | ||
搜索关键词: | 阵列 制作方法 移动 终端 | ||
【主权项】:
暂无信息
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