[发明专利]一种大面积光栅的制备方法有效
| 申请号： | 202110782375.8 | 申请日： | 2021-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN113514913B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 周倩;倪凯;梁久久;王翀宇;陈垚鑫 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳国际研究生院 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 方艳平 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种大面积光栅的制备方法，包括：S1：搭建干涉曝光光路；S2：选定制备大面积光栅所需的光刻胶和基底材料，再依次进行匀胶和前烘步骤；S3：预设曝光时间并曝光；S4：预设显影时间并显影；S5：观察基底中心的光刻胶是否已经溶解完，如果是，则减小显影时间并再次执行步骤S2～S4，如果否，则继续执行步骤S6：S6：观察基底中心的光刻胶占空比是否已经达到光刻胶的极限分辨率，如果是，则继续执行步骤S7，如果否，则增加曝光时间并再次执行步骤S2～S5；S7：测量达到光刻胶的极限分辨率的面积，该面积为干涉曝光光路能够曝光得到的光栅的最大面积，并记录此时的曝光时间和显影时间。本发明降低了大面积光栅制造的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大面积 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学深圳国际研究生院，未经清华大学深圳国际研究生院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110782375.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种通孔、盲孔互连结构成型工艺
- 下一篇：一种用于移动盘式过滤机的气吹式刮刀
