[发明专利]一种等离子体剥除光纤涂覆层的方法和系统有效
| 申请号： | 202110783616.0 | 申请日： | 2021-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN113253388B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 刘茵紫;王勇;兰根书 | 申请（专利权）人： | 武汉聚合光子技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/245 | 分类号： | G02B6/245 |
| 代理公司： | 武汉泰山北斗专利代理事务所(特殊普通合伙) 42250 | 代理人： | 董佳佳 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷二*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明适用于光纤激光器技术领域，提供一种等离子体剥除光纤涂覆层的方法和系统，本发明将带涂覆层的光纤置于充满低温等离子体的反应管内，等离子体的电子与活性基团与光纤涂覆层材料发生反应，解析为新的气相物质而脱离表面，最后将气相物质排出即可，实现光纤涂覆层超高洁净度剥除，且不会对光纤表面造成损伤；另外，低温等离子体温度接近室温，不会对光纤造成热损伤或改变光纤波导结构；此外，等离子体均匀存储于腔室中，通过磁场驱动方式可使等离子体能够快速在反应管中均匀分布，从而实现更均匀、更高效地与石英光纤涂覆层反应，保证涂覆剥除分界线平整。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 剥除 光纤 覆层 方法 系统 | ||
【主权项】：
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