[发明专利]一种基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110791031.3 申请日: 2021-07-13
公开(公告)号: CN113426500A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 耿延泉;李子翰;闫永达 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 代理人: 李智慧
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了一种基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法,所述方法包括如下步骤:步骤一、使用AFM在聚碳酸酯薄膜表面进行往复扫描加工,通过控制探针的运动轨迹得到纳米波纹结构;步骤二、以PDMS和固化剂为转印材料,通过PDMS转印得到带有纳米通道阵列的PDMS片;步骤三、采用光刻法在单晶硅基底上加工微通道结构,通过PDMS转印得到带有微通道的PDMS片;步骤四、采用氧等离子体清洗机对带有纳米通道阵列的PDMS片和带有微通道的PDMS片进行键合,得到带有纳米通道阵列的纳流控芯片。本发明的加工方法简单、通道深宽比可控,制备出的带有纳米通道阵列的纳流控芯片具有更高的灵敏。
搜索关键词: 一种 基于 纳米 波纹 结构 纳流控 芯片 制备 方法
【主权项】:
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