[发明专利]一种基于局部二值模式的像素差卷积边缘检测方法有效
| 申请号： | 202110791743.5 | 申请日： | 2021-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN113255704B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 刘文哲;苏卓;刘丽;白亮 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G06K9/46 | 分类号： | G06K9/46;G06K9/62;G06N3/04;G06T7/13 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 曾志鹏 |
| 地址： | 410003 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于局部二值模式的像素差卷积边缘检测方法，包括如下步骤：S1.构建像素差异卷积以替换深度卷积神经网络中的普通卷积层，建立像素差异卷积神经网络；S2.使用像素差异卷积神经网络对图像进行边缘检测，输出边缘检测结果。本发明将像素差异应用于受HED启发的三模块结构的主干网络中，提出了两类像素差异卷积神经网络，即RPD‑CNN和APD‑CNN，而没有引入任何额外的参数，以提高深度学习网络的检测边缘能力。基于像素差异卷积的主干网络可以为后续的侧面输出模块和特征融合模块提供初步的特征提取。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 局部 模式 像素 卷积 边缘 检测 方法 | ||
【主权项】：
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